Atomic Layer Deposition
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Vše od
John Wiley & Sons Inc
ISBN: 9781118062777
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.
5 139 Kč
- 1 - 2 ks
- 5 139 Kč
- 3 - 10 ks
- 5 088 Kč
- 11 a více ks
- 5 038 Kč
Naše cena 5 139 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 5 467 Kč.
Předpoklad doručení do 27. května *
* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.
Nepřehlédněte od John Wiley & Sons Inc ↓
5 139 Kč
Více o produktu ↓
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.
- Výrobce
- John Wiley & Sons Inc
- Jazyk
- United States
- Autor
- Kaariainen, Tommi;Cameron, David;Kaariainen, Marja-Leena;Sherman, Arthur
- Rozměry
- 164 x 240 x 25
- Rok vydání
- 2013
- Počet stran
- 272
- Obsah
- Hardback
- Hmotnost
- 582
- Počet stran
- 272 pages
Zanechte své hodnocení
Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Atomic Layer Deposition a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.
Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!
