Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics

Kinetics

Capitelli, Mario;Celiberto, Roberto;Colonna, Gianpiero;Esposito, Fabrizio;Gorse, Claudine;Hassouni, Khaled;Laricchiuta, Annarita;Longo, Savino | Autoři

Vše od Springer-Verlag New York Inc.
ISBN: 9781441981844

Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics

Více o produktu


Nejprodávanější produkty v aktuálním měsíci.

3 819 Kč

1 - 2 ks
3 819 Kč
3 - 10 ks
3 781 Kč
11 a více ks
3 744 Kč

Naše cena 3 819 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 4 062 Kč.

Předpoklad doručení do 27. května *

* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.

3 819 Kč 4 062 Kč

Nepřehlédněte od Springer-Verlag New York Inc.

Více o produktu

Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics

Výrobce
Springer-Verlag New York Inc.
Jazyk
United States
Autor
Capitelli, Mario;Celiberto, Roberto;Colonna, Gianpiero;Esposito, Fabrizio;Gorse, Claudine;Hassouni, Khaled;Laricchiuta, Annarita;Longo, Savino
Rozměry
165 x 246 x 24
Rok vydání
2015
Počet stran
318
Obsah
Hardback
Hmotnost
646
Počet stran
318 pages, XVI, 318 p.

Zanechte své hodnocení

Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.

Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!