High-k Gate Dielectric Materials
Applications with Advanced Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors (MOSFETs)
Vše od
Apple Academic Press Inc.
ISBN: 9781774638859
This volume explores and addresses the challenges of high-k gate dielectric materials, one of the major concerns in the evolving semiconductor industry and the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS).
2 594 Kč
- 1 - 2 ks
- 2 594 Kč
- 3 - 10 ks
- 2 568 Kč
- 11 a více ks
- 2 543 Kč
Předpoklad doručení do 27. května *
* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.
Nepřehlédněte od Apple Academic Press Inc. ↓
2 594 Kč
Více o produktu ↓
This volume explores and addresses the challenges of high-k gate dielectric materials, one of the major concerns in the evolving semiconductor industry and the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS).
- Výrobce
- Apple Academic Press Inc.
- Jazyk
- Canada
- Rozměry
- 151 x 228 x 18
- Rok vydání
- 2022
- Počet stran
- 264
- Obsah
- Paperback / softback
- Hmotnost
- 416
- Počet stran
- 264 pages, 18 Tables, black and white; 24 Illustrations, color; 79 Illustrations, black and white
Zanechte své hodnocení
Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s High-k Gate Dielectric Materials a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.
Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!
