Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Vše od
Taylor & Francis Ltd
ISBN: 9781032386706
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
5 625 Kč
- 1 - 2 ks
- 5 625 Kč
- 3 - 10 ks
- 5 569 Kč
- 11 a více ks
- 5 515 Kč
Předpoklad doručení do 27. května *
* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.
Nepřehlédněte od Taylor & Francis Ltd ↓
Resisting Racism and Promoting Equity Through Community-Engaged Social Action
do 11. května1 437 Kč
Resisting Racism and Promoting Equity Through Community-Engaged Social Action
do 27. května4 844 Kč
5 625 Kč
Více o produktu ↓
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
- Výrobce
- Taylor & Francis Ltd
- Jazyk
- United Kingdom
- Autor
- Adeleke, Oluwatobi;Karimzadeh, Sina;Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)
- Rozměry
- 234 x 156
- Rok vydání
- 2023
- Počet stran
- 354
- Obsah
- Hardback
- Hmotnost
- 662
- Počet stran
- 354 pages, 102 Line drawings, black and white; 24 Halftones, black and white; 126 Illustrations, bla
Zanechte své hodnocení
Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.
Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!
