Nanoscale Redox Reaction at Metal/Oxide Interface
A Case Study on Schottky Contact and ReRAM
Vše od
Springer Verlag, Japan
ISBN: 9784431548492
Oxide materials are good candidates for replacing Si devices, which are increasingly reaching their performance limits, since the former offer a range of unique properties, due to their composition, design and/or doping techniques.
1 322 Kč
- 1 - 2 ks
- 1 322 Kč
- 3 - 10 ks
- 1 309 Kč
- 11 a více ks
- 1 296 Kč
Naše cena 1 322 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 1 406 Kč.
Předpoklad doručení do 27. května *
* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.
Nepřehlédněte od Springer Verlag, Japan ↓
1 322 Kč
Více o produktu ↓
Oxide materials are good candidates for replacing Si devices, which are increasingly reaching their performance limits, since the former offer a range of unique properties, due to their composition, design and/or doping techniques.
- Výrobce
- Springer Verlag, Japan
- Jazyk
- Japan
- Autor
- Nagata, Takahiro
- Rozměry
- 235 x 155
- Rok vydání
- 2020
- Počet stran
- 89
- Obsah
- Paperback / softback
- Počet stran
- 89 pages, 51 Illustrations, color; 12 Illustrations, black and white; XI, 89 p. 63 illus., 51 illus.
Zanechte své hodnocení
Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Nanoscale Redox Reaction at Metal/Oxide Interface a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.
Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!
