New Prospects of Integrating Low Substrate Temperatures with Scaling-Sustained Device Architectural Innovation

Ashraf, Nabil Shovon;Alam, Shawon;Alam, Mohaiminul | Autoři

Vše od Springer International Publishing AG
ISBN: 9783031008993

In order to sustain Moore's Law-based device scaling, principal attention has focused on toward device architectural innovations for improved device performance as per ITRS projections for technology nodes up to 10 nm. Efficient integration of lower substrate temperatures (

Více o produktu


Nejprodávanější produkty v aktuálním měsíci.

734 Kč

1 - 2 ks
734 Kč
3 - 10 ks
727 Kč
11 a více ks
720 Kč

Naše cena 734 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 781 Kč.

Předpoklad doručení do 27. května *

* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.

734 Kč 781 Kč

Nepřehlédněte od Springer International Publishing AG

Více o produktu

In order to sustain Moore's Law-based device scaling, principal attention has focused on toward device architectural innovations for improved device performance as per ITRS projections for technology nodes up to 10 nm. Efficient integration of lower substrate temperatures (

Výrobce
Springer International Publishing AG
Jazyk
Switzerland
Autor
Ashraf, Nabil Shovon;Alam, Shawon;Alam, Mohaiminul
Rozměry
235 x 191
Rok vydání
2016
Počet stran
72
Obsah
Paperback / softback
Počet stran
72 pages, VIII, 72 p.

Zanechte své hodnocení

Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s New Prospects of Integrating Low Substrate Temperatures with Scaling-Sustained Device Architectural Innovation a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.

Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!