Optical and EUV Lithography

A Modeling Perspective

Erdmann, Andreas | Autoři

Vše od SPIE Press
ISBN: 9781510639010

Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers...

Více o produktu


Nejprodávanější produkty v aktuálním měsíci.

2 000 Kč

1 - 2 ks
2 000 Kč
3 - 10 ks
1 980 Kč
11 a více ks
1 961 Kč

Předpoklad doručení do 27. května *

* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.

2 000 Kč

Nepřehlédněte od SPIE Press

Více o produktu

Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers expand their knowledge of alternative methods and applications.

Výrobce
SPIE Press
Jazyk
United States
Autor
Erdmann, Andreas
Rozměry
178 x 255 x 24
Rok vydání
2021
Počet stran
374
Obsah
Paperback / softback
Hmotnost
682
Počet stran
374 pages

Zanechte své hodnocení

Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Optical and EUV Lithography a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.

Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!