Optical and EUV Lithography
A Modeling Perspective
Vše od
SPIE Press
ISBN: 9781510639010
Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers...
2 000 Kč
- 1 - 2 ks
- 2 000 Kč
- 3 - 10 ks
- 1 980 Kč
- 11 a více ks
- 1 961 Kč
Předpoklad doručení do 27. května *
* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.
Nepřehlédněte od SPIE Press ↓
2 000 Kč
Více o produktu ↓
Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers expand their knowledge of alternative methods and applications.
- Výrobce
- SPIE Press
- Jazyk
- United States
- Autor
- Erdmann, Andreas
- Rozměry
- 178 x 255 x 24
- Rok vydání
- 2021
- Počet stran
- 374
- Obsah
- Paperback / softback
- Hmotnost
- 682
- Počet stran
- 374 pages
Zanechte své hodnocení
Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Optical and EUV Lithography a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.
Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!