Physical Vapor Deposition of Thin Films

Mahan, John E. (Colorado State University) | Autoři

Vše od John Wiley & Sons Inc
ISBN: 9780471330011

This volume examines physical vapour deposition, one of the main methods for preparing thin films for integrated circuit manufacturing and many other high-tech industries. It introduces unified treatment of the field of physical vapour deposition, drawing on a wide range of physical science.

Více o produktu


Nejprodávanější produkty v aktuálním měsíci.

5 022 Kč

1 - 2 ks
5 022 Kč
3 - 10 ks
4 972 Kč
11 a více ks
4 924 Kč

Naše cena 5 022 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 5 342 Kč.

Předpoklad doručení do 10. června *

* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.

5 022 Kč 5 342 Kč

Nepřehlédněte od John Wiley & Sons Inc

Více o produktu

This volume examines physical vapour deposition, one of the main methods for preparing thin films for integrated circuit manufacturing and many other high-tech industries. It introduces unified treatment of the field of physical vapour deposition, drawing on a wide range of physical science.

Výrobce
John Wiley & Sons Inc
Jazyk
United States
Autor
Mahan, John E. (Colorado State University)
Rozměry
238 x 164 x 22
Rok vydání
2000
Počet stran
340
Obsah
Hardback
Hmotnost
590
Počet stran
340 pages

Zanechte své hodnocení

Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Physical Vapor Deposition of Thin Films a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.

Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!