Plasma Charging Damage

Cheung, Kin P. | Autoři

Vše od Springer London Ltd
ISBN: 9781447110620

In the 50 years since the invention of transistor, silicon integrated circuit (IC) technology has made astonishing advances. In state of the art silicon Ie manufacturing process, plasma is used in more than 20 different critical steps.

Více o produktu


Nejprodávanější produkty v aktuálním měsíci.

5 287 Kč

1 - 2 ks
5 287 Kč
3 - 10 ks
5 235 Kč
11 a více ks
5 183 Kč

Naše cena 5 287 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 5 625 Kč.

Předpoklad doručení do 27. května *

* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.

5 287 Kč 5 625 Kč

Nepřehlédněte od Springer London Ltd

Více o produktu

In the 50 years since the invention of transistor, silicon integrated circuit (IC) technology has made astonishing advances. In state of the art silicon Ie manufacturing process, plasma is used in more than 20 different critical steps.

Výrobce
Springer London Ltd
Jazyk
United Kingdom
Autor
Cheung, Kin P.
Rozměry
234 x 157 x 19
Rok vydání
2012
Počet stran
346
Obsah
Paperback / softback
Hmotnost
522
Počet stran
346 pages, XII, 346 p.

Zanechte své hodnocení

Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Plasma Charging Damage a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.

Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!