Reactive Sputter Deposition
Vše od
Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG
ISBN: 9783540766629
In the family of Physical Vapour Deposition techniques, sputtering is one of the most important. This book describes various aspects of the reactive magnetron sputtering process, from the discharge up to the resulting thin film growth allowing the reader to understand the complete process.
8 504 Kč
- 1 - 2 ks
- 8 504 Kč
- 3 - 10 ks
- 8 420 Kč
- 11 a více ks
- 8 337 Kč
Naše cena 8 504 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 9 047 Kč.
Předpoklad doručení do 5. června *
* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.
Nepřehlédněte od Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG ↓
8 504 Kč
Více o produktu ↓
In the family of Physical Vapour Deposition techniques, sputtering is one of the most important. This book describes various aspects of the reactive magnetron sputtering process, from the discharge up to the resulting thin film growth allowing the reader to understand the complete process.
- Výrobce
- Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG
- Jazyk
- Germany
- Rozměry
- 241 x 162 x 45
- Rok vydání
- 2008
- Počet stran
- 572
- Obsah
- Hardback
- Hmotnost
- 1134
- Počet stran
- 572 pages, XVIII, 572 p.
Zanechte své hodnocení
Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Reactive Sputter Deposition a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.
Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!
