Recent Advances in PMOS Negative Bias Temperature Instability
Characterization and Modeling of Device Architecture, Material and Process Impact
Vše od
Springer Verlag, Singapore
ISBN: 9789811661228
Recent Advances in PMOS Negative Bias Temperature Instability vydalo nakladatelství Springer Verlag, Singapore s podtitulem Characterization and Modeling of Device Architecture, Material and Process Impact...
3 819 Kč
- 1 - 2 ks
- 3 819 Kč
- 3 - 10 ks
- 3 781 Kč
- 11 a více ks
- 3 744 Kč
Naše cena 3 819 Kč je o 6 % nižší než
doporučená cena výrobce 4 062 Kč.
Předpoklad doručení do 27. května *
* Termín expedice je odhadovaný a může se mírně upravit podle termínu dodání od našeho dodavatele. Pokud by došlo ke změně, vždy vás budeme včas informovat.
Nepřehlédněte od Springer Verlag, Singapore ↓
Interplay of Geo-Politics and Geo-Economics in PakistanÂ’s Foreign Policy (Post-2008)
do 27. května3 231 Kč
3 819 Kč
Více o produktu ↓
- Výrobce
- Springer Verlag, Singapore
- Jazyk
- Singapore
- Rozměry
- 235 x 155
- Rok vydání
- 2022
- Počet stran
- 311
- Obsah
- Paperback / softback
- Počet stran
- 311 pages, 189 Illustrations, color; 24 Illustrations, black and white; XXIII, 311 p. 213 illus., 18
Zanechte své hodnocení
Budeme rádi, když se podělíte o svou zkušenost s Recent Advances in PMOS Negative Bias Temperature Instability a pomůžete tak ostatním zákazníkům při výběru.
Navíc každý měsíc losujeme jednoho z těch, kteří nám zanechali recenzi, a obdarujeme ho kuponem na nákup v hodnotě 500 Kč. Možná právě Vy budete tím šťastným – držíme palce!
